熱蒸發(fā)用鎢坩堝
熱蒸發(fā)用鎢坩堝是指用于真空熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)中的高溫蒸發(fā)容器，可在持續(xù)加熱條件下穩(wěn)定承載金屬、氧化物及功能材料，并實現(xiàn)均勻、可控的蒸發(fā)輸出，為薄膜沉積提供穩(wěn)定材料源。
鎢坩堝采用高純鎢材料（W≥99.95%）制備，通過粉末冶金燒結(jié)及精密加工工藝制成，適用于多種真空熱蒸發(fā)與功能薄膜制備系統(tǒng)。
熱蒸發(fā)為什么使用鎢坩堝？
熱蒸發(fā)工藝對蒸發(fā)源部件的高溫穩(wěn)定性與潔凈度要求較高。中鎢智造鎢坩堝具有以下特點，可滿足真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備對高溫連續(xù)運行、蒸發(fā)穩(wěn)定性及薄膜純凈度控制的應(yīng)用需求：
（1）高溫承載能力強：鎢熔點約3410℃，可適應(yīng)高功率連續(xù)蒸發(fā)環(huán)境；
（2）真空穩(wěn)定性好：高溫下蒸氣壓低，有助于維持鍍膜腔體潔凈度；
（3）結(jié)構(gòu)可靠性高：在反復(fù)加熱與冷卻循環(huán)中仍保持較好的尺寸穩(wěn)定性；
（4）熱傳導(dǎo)性能優(yōu)良：有助于蒸發(fā)材料均勻受熱，提高蒸發(fā)效率；
（5）材料純度高：減少雜質(zhì)析出，有利于提升膜層純凈度與附著一致性；
（6）耐熱沖擊性能較好：適用于間歇式及連續(xù)式蒸發(fā)工況。
中鎢智造鎢坩堝在熱蒸發(fā)中的應(yīng)用場景
中鎢智造鎢坩堝主要用于以下工藝：
（1）金屬薄膜蒸發(fā)（Al、Ag、Au、Cu、Ni）；
（2）光學(xué)鍍膜（增透膜、反射膜、濾光膜）；
（3）半導(dǎo)體導(dǎo)電層與功能層沉積；
（4）OLED（Organic Light Emitting Diode）器件蒸鍍；
（5）光伏與功能薄膜制備；
（6）科研真空蒸發(fā)實驗。
中鎢智造鎢坩堝的規(guī)格
（1）純度：≥99.95%
（2）密度：17.8~18.5 g/cm3
（3）外徑：5~300mm，可定制
（4）高度：5~350mm，可定制
（5）壁厚：0.3~20mm，可定制
中鎢智造（CTIA GROUP）深耕鎢坩堝制造30余年，可根據(jù)熱蒸發(fā)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)與工藝需求，對坩堝尺寸、壁厚比例及熱場分布進行優(yōu)化設(shè)計，實現(xiàn)從材料制備到精密加工的一體化解決方案。
如有任何鎢坩堝的設(shè)計、生產(chǎn)、需求、詢價等問題，請聯(lián)系制造商：中鎢智造（廈門）科技有限公司
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